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| Stabilizing dielectric constant of fluorine-doped SiO2 film by N2O and NH3 plasma post-treatment | 131 |
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| Stabilizing dielectric constant of fluorine-doped SiO2 film by N2O and NH3 plasma post-treatment | 0 | 0 | 0 | 5 | 2 | 0 | 1 |
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