抗反射鍍膜及行波式放大器特性測量

Abstract

以ＳｉＯｘ為真空鍍膜材料，對一個已製成的雷射二極體的二個反射面，分別進行抗 反射鍍膜，使它形成行波式雷射放大器。並且分別量度鍍單面，及雙面時此元件光放 大率的特性。度量結果顯示，單面鍍膜時放大率比雙面鍍膜者為小，而所加電流越高 ，放大率就越大，對溫度亦越不敏感。於單面鍍膜的結構，８０ｍＡ之高電流可以得 到１８ｄＢ之放大率。其溫度係數小於０．２５ｄＢ╱℃。而雙面鍍膜的結構，在６ ５ｍＡ即可得到１６ｄＢ之放大率，而其溫度係數小於０．７５ｄＢ╱℃。