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dc.contributor.author黃健銘en_US
dc.contributor.authorHUANG,JIAN-MINGen_US
dc.contributor.author雷添福en_US
dc.contributor.author陳茂傑en_US
dc.contributor.author張振雄en_US
dc.contributor.authorLEI,TIAN-FUen_US
dc.contributor.authorCHEN,MAO-JIEen_US
dc.contributor.authorZHANG,ZHEN-XIONGen_US
dc.date.accessioned2014-12-12T02:06:33Z-
dc.date.available2014-12-12T02:06:33Z-
dc.date.issued1989en_US
dc.identifier.urihttp://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT782123027en_US
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11536/54354-
dc.description.abstract本論文對N 型砷化鎵歐姆接觸做了各種組成的電性及微細結構上的研究,這些組成包 含了以下的型式:Au/Ge/GaAs,Au/Pt/Ge/GaAs,Au/Cr/Ge/GaAs,及Au/Ti/W/Au/Ge/ GaAs。其中介于於上層Au及下層Au/Ge 之間的Cr和TiW 主要是扮演擴散障壁的角色, 為了比較起見,夾Pt以及不夾任何中間層的結構也同時研究。 電性方面的量測是採用標準TLM 方法,為了進一步了解各種歐姆接觸的熱穩定性,我 們也做了長時間處理測試,實驗結果顯示Au/Ti/W/Au/Ge 結構不需要很嚴格的熱處理 條件即可得到較低的接觸電阻,較好的表面,且最穩定。而 Au/Cr/Au/Ge結構的接觸 電阻也很低,但是它的表面及熱穩定性都較差。另一接觸結構 Au/Pt/Au/Ge有很平滑 且均勻的表面,但是唯有熱處理的時間較長, 溫度較高, 此結構的接觸電阻才會較低 , 而它的熱穩定性也比夾擴散障壁的結構差。至於不夾任何中間層的結構 Au/Ge,它 的電性及物性都是所有結構中最差的。 另一方面,穿透式電子顯微鏡,X 光繞射用Auaer 表面分析被嘗試用來解釋本實驗的 電性結果。zh_TW
dc.language.isozh_TWen_US
dc.subjectzh_TW
dc.subject鈦鎢zh_TW
dc.subjectN型砷化鎵zh_TW
dc.subject熱穩定zh_TW
dc.subject歐姆接觸zh_TW
dc.subject擴散障壁zh_TW
dc.subject熱處理zh_TW
dc.subject穩定性zh_TW
dc.subjectTLMen_US
dc.title鉻輿鈦鎢擴散障壁對N型砷化鎵熱穩定歐姆接觸之影響zh_TW
dc.typeThesisen_US
dc.contributor.department光電工程學系zh_TW
顯示於類別:畢業論文