以雷射技術研究大氣化學之重要分子---氟氯烷取代物研究---子計畫II：與OH及Cl之反應速率

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882113M009007L1.pdf (159.11 KB)

Date

Authors

WANG NIANN SHIAH

Keywords

氟氯烷取代物 , 反應速率 , 氯原子 , 羥自由基 , Freon substitute , Reaction rate , Chlorine atom , Hydroxyl radical

URI

https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=416981&docId=73900
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/94514

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研究計畫;;Research Plans