8吋矽晶圓半導體LPCVD製程設備之研發---子計畫四：利用LPCVD法成長Ta/sub 2/O/sub 5/薄膜與特性分析(I)

Date

Authors

TSEUNG-YUENTSENG

Keywords

五氧化二鉭 , 低壓化學蒸鍍法 , 晶圓 , 薄膜生長 , Tantalum pentaoxide , LPCVD , Wafer , Thin film growth

URI

https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=293407&docId=53716
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/95211

Collections

研究計畫;;Research Plans