8吋矽晶半導體LPCVD製程設備之研發---總計畫(III)

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882218E009001.pdf (661.08 KB)

Date

Authors

Keywords

LPCVD反應爐 , 薄膜成長 , 熱流設計 , LPCVD reactor , Thin film growth , Thermal fluid design

URI

https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=431210&docId=77294
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/94464

Collections

研究計畫;;Research Plans