化學氣相沉積擴散障礙層和鋁在極大型積體電路金屬連線之先導性研究(II)

Date

Authors

Keywords

化學氣相沉積法 , 金屬化 , 極大型積體電路 , 鋁 , CVD , Metallization , ULSI , Aluminum

URI

https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=235104&docId=43197
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/96146

Collections

研究計畫;;Research Plans