脈衝雷射蒸鍍和造形高溫超導微波元件之研究 (I)

Abstract

本研究計畫係延續前兩年所建立之脈衝雷 射製備釔系高溫超導薄膜之技術經驗和具體研 究成果,深入探討薄膜成長之起始狀態,以進一 步達到可控制之超薄超導薄膜成長,並改進薄 膜超導特性和其表面狀態,以便達到製作高溫 超導微波電子元件所須之薄膜品質要求.本計 畫亦將建立大面積□雙面蒸鍍技術□以符合應 用之須求.除了單層薄膜蒸鍍外,我們亦將研製 超導/絕緣/超導和超導/導體/超導之三疊層結 構,以提供適合作精密被動和主動微波元件所 須之薄膜.本研究計畫亦將建立雷射造形系統, 研究雷射造形高溫超導薄膜之技術,並嘗試利 用此方法製備高可靠度之超導微波元件且量測 其物理特性.