電子束微影之鄰近效應修正

Date

Authors

Keywords

電子束 , 微影術 , 鄰近效應修正 , 充電效應 , 輸出量 , E-beam , Lithography , Proximity effect correction , Changing effect , Throughput

URI

https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=418244&docId=74199
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/94250

Collections

研究計畫;;Research Plans