嵌附式減光式相移光罩之模擬與製備

Date

Authors

Keywords

微影成像 , 相移光罩 , 活性離子蝕刻 , 電子束微影 , Microlithography , Phase-shifting mask , Reactive ion etching , E-beam lithography

URI

https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=409017&docId=72411
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/94845

Collections

研究計畫;;Research Plans