Title: | 低溫沉積氧化層的方法 |
Authors: | 葉清發 陳柏翰 王碩晟 徐中玓 |
Issue Date: | 21-Jun-2004 |
Abstract: | 一種低溫沉積氧化層的方法,在利用液相沉積氧化層之前先使用臭氧處理,以於基板表面成長原生氧化層,再沉積液相氧化層,並且可以於氧化層形成後施以電漿退火處理,可獲得高品質氧化膜,而所有製程均可在室溫下進行。 |
Gov't Doc #: | C23C016/40 C23C016/40 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/106432 |
Patent Country: | TWN |
Patent Number: | 00593735 |
Appears in Collections: | Patents |
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