Title: 高耐壓功率電晶體的設計與製造
Authors: 沈志豪
Shen, Zhi-Hao
張俊彥
謝正雄
Zhang, Zun-Yan
Xie, Zheng-Xiong
電子研究所
Keywords: 電子工程;ELECTRONIC-ENGINEERING
Issue Date: 1974
Abstract: 本文中述及高耐壓功率電晶體的設計與製造的方法。實驗結果:耐壓六00伏
特,直流放大最高為八。設計方法和理論均與實驗結果相差不遠;同時和一般工商
業所用之高耐壓電晶體大致符合,此證明所發展的設計製作方法的可行性。
本文共有一冊,全冊大略有一萬多字;文中分為五大節。
第一節 為介紹(其中介紹著者所使用製作方法之特性,並與其它之製作方法
作一概略之介紹和比較)。
第二節 為理論之推論,(其中包括兩部份:理論和設計。理論部份是根據一
般參考書之推論;而設計部份係由理論之推論而作有效之方法之設計)。
第三節 為實驗結果和程序。
第四節 為討論(其中討論製作時所遇之情形)。
第五節 為結論。
URI: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT634430001
http://hdl.handle.net/11536/51036
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