Title: | 以展阻系統研究磞驅入擴散曲線 |
Authors: | 何適 HE,SHI 李虫仁 Li, Hui-Ren 電子研究所 |
Keywords: | 展阻系統;磞散曲線;分段積分;ASR-100展阻系統;電子工程;CYBER170/720;ELECTRONIC-ENGINEERING |
Issue Date: | 1980 |
Abstract: | 本文成功的在CYBER170/720計算機上建立展阻系統的程式。應用分段積分的關念,一 個40點的展阻曲線只要在短短的3 分鐘內就能變為雜質濃度曲線。比起以往利用ASR- 100 展阻系統應用手冊上單層理論所算出的雜質濃度曲線, 在準確度上跨了一大步。 應用陽極氧化的結果, 本文客觀的評估展阻系統的準確度。 應用展阻系統所測得的雜質曲線,本文也成功的建立了硼在1200℃濕氧狀況下驅入擴 散的模型。 |
URI: | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT694430064 http://hdl.handle.net/11536/51434 |
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