氧化鎂基板處理條件對於釔鋇銅氧薄膜品質之影響

Abstract

探討基片（MgO）經退火與未退火處理時，利用雷射鍍膜製成之薄膜，研究在濺鍍時 ，不同溫度處理基片之條件下，薄膜之表面性質與微波表面損耗之關係。進而推論， 若以應用而言，微波元件製作時所需基片之最佳條件。