| Title: | 實用銅膜之化學氣相沉積技術研究(I) Study and Development of Practical Copper Film Deposition by CVD method (I) |
| Authors: | 陳茂傑 交通大學電子工程系 |
| Issue Date: | 2002 |
| Gov't Doc #: | NSC91-2215-E009-043 |
| URI: | http://hdl.handle.net/11536/92657 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=784401&docId=150769 |
| Appears in Collections: | Research Plans |
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