低介電常數材料與銅製程整合之研究(I)

Title:	低介電常數材料與銅製程整合之研究(I) Study on the Integration of Low Dielectric Constant Materials and Copper Interconnect(I)
Authors:	施敏 SZE SIMON MIN 國立交通大學電子工程學系
Issue Date:	2000
Gov't Doc #:	NSC89-2215-E009-098
URI:	http://hdl.handle.net/11536/98517 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=583867&docId=109701
Appears in Collections:	Research Plans

APA	施., & SZE S. MIN (2000). 低介電常數材料與銅製程整合之研究(I). https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=583867&docId=109701.
Bibtex	@article{2000, title={低介電常數材料與銅製程整合之研究(I)}, author={施敏 and SZE SIMON MIN}, journal={https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=583867&docId=109701}, year={2000}, url={https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/98517}, }