藉由修飾濺鍍氮化鋁緩衝層在圖形化藍寶石基板上以改善氮化鎵品質

標題:	藉由修飾濺鍍氮化鋁緩衝層在圖形化藍寶石基板上以改善氮化鎵品質 Improved GaN quality by modifying sputter AlN buffer layer on pattern sapphire substrate
作者:	郭彥廷吳耀銓 Kuo,Yen-Ting Wu, Yew-Chung 材料科學與工程學系所
關鍵字:	圖形化藍寶石基板;氮化鋁;pattern sapphire substrate;AlN
公開日期:	2017
URI:	http://etd.lib.nctu.edu.tw/cdrfb3/record/nctu/#GT070451525 http://hdl.handle.net/11536/142697
顯示於類別：	畢業論文

APA	郭., 吳., K., & Wu, Y. (2017). 藉由修飾濺鍍氮化鋁緩衝層在圖形化藍寶石基板上以改善氮化鎵品質. http://hdl.handle.net/11536/142697.
Bibtex	@article{郭彥廷 and 吳耀銓 and Kuo2017, title={藉由修飾濺鍍氮化鋁緩衝層在圖形化藍寶石基板上以改善氮化鎵品質}, author={郭彥廷 and 吳耀銓 and Kuo,Yen-Ting and Wu, Yew-Chung}, journal={http://hdl.handle.net/11536/142697}, year={2017}, url={http://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/142697?locale=zh_TW}, }