以電化學法微細加工同步輻射X光深刻微構件(II)

Title:	以電化學法微細加工同步輻射X光深刻微構件(II) Electrochemical Micromachining of Synchrotron X-Ray Lithographed Microstructure (II)
Authors:	涂肇嘉交通大學材料科學與工程研究所
Keywords:	同步輻射X光;微細加工;光蝕術;電化學蝕刻;微探針;Synchrotron X-ray;Micromachining;Lithography;Electrochemical etching;Microprobe
Issue Date:	1999
Gov't Doc #:	NSC88-2216-E009-021
URI:	http://hdl.handle.net/11536/94533 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=444261&docId=80456
Appears in Collections:	Research Plans

APA	涂. (1999). 以電化學法微細加工同步輻射X光深刻微構件(II). https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=444261&docId=80456.
Bibtex	@article{1999, title={以電化學法微細加工同步輻射X光深刻微構件(II)}, author={涂肇嘉}, journal={https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=444261&docId=80456}, year={1999}, url={http://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/94533}, }