以電化學法微細加工同步輻射X光深刻微構件(II)

标题:	以电化学法微细加工同步辐射X光深刻微构件(II) Electrochemical Micromachining of Synchrotron X-Ray Lithographed Microstructure (II)
作者:	涂肇嘉交通大学材料科学与工程研究所
关键字:	同步辐射X光;微细加工;光蚀术;电化学蚀刻;微探针;Synchrotron X-ray;Micromachining;Lithography;Electrochemical etching;Microprobe
公开日期:	1999
官方说明文件#:	NSC88-2216-E009-021
URI:	http://hdl.handle.net/11536/94533 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=444261&docId=80456
显示于类别：	Research Plans

APA	涂. (1999). 以电化学法微细加工同步辐射X光深刻微构件(II). https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=444261&docId=80456.
Bibtex	@article{1999, title={以电化学法微细加工同步辐射X光深刻微构件(II)}, author={涂肇嘉}, journal={https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=444261&docId=80456}, year={1999}, url={http://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/94533?locale=zh_CN}, }