| 標題: | 嵌附式減光型相移圖罩之模擬與製備 Simulation and Fabrication of Embedded Attenuated Phase-Shifting Mask |
| 作者: | 龍文安 Loong Wen-an 交通大學應用化學系 |
| 關鍵字: | 相移光罩;活性離子蝕刻;電子束;微影術;步進機;Phase shift mask (PSM);Reactive ion etching (RIE);E-beam;Lithography;Stepper |
| 公開日期: | 1999 |
| 官方說明文件#: | NSC88-2215-E009-025 |
| URI: | http://hdl.handle.net/11536/94241 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=418240&docId=74198 |
| 顯示於類別： | 研究計畫 |
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