Browsing by Author "LIN SHIUAN-HUEI"

Now showing 1 - 11 of 11

全像高分子材料之新穎體積全像紀錄研究與相關光資訊應用
(2014)
林烜輝
;
LIN SHIUAN-HUEI
;
國立交通大學電子物理學系（所）
本計晝旨在探索『新穎體積全像紀錄技術以及其應用於光資訊之研究』，内容包括兩大項目：（1).研製低收縮高分子體積全像材料，進行新穎的全像紀錄機制與特性研究，並針對相關光資訊應用進行材料特性研發。（2).研究體積全像技術於前瞻光資訊之應用，著重於資訊儲存媒體、3D顯示器元件以及全像光學元件等方向。在低收縮高分子體積全像材料方面，將承續實驗室研發之PQ/PMMA高分子體積全像材料的經驗及技術，首先完善兩階段熱聚合製程的技術，發展高光學品質的塊材製程，其次，著重於兩種新穎的全像記錄方式研究：偏極化全像與雙波長全像。我們將以實驗進行光化學分析，研究其記錄的物理機制，提供全像紀錄理論模型建立之基礎，且同時建立各式量測系統進行相關光學實驗分析，量測全像記錄特性，配合相關記錄機制理論模擬比較，建立材料參數提供規範制定與取捨，探索及設計其在光學資訊處理的相關應用。在光資訊應用方面，將以實驗室建立體積全像技術出發，配合材料的研發，進行全像資訊儲存媒體、3D顯示器元件以及全像光學元件等前瞻性研究。首先，根據偏極化全像紀錄特性，研究偏極化資訊編碼及儲存多工之可行性，以增加資訊儲存的安全性及容量；其次，配合材料低收縮紀錄特性，結合實驗室以往研究液晶3D顯示面板的基礎，進行液晶顯示器次微米驅動特性，以及重建穿透式全像所需空間同調重建光源的研究，並以體積全像設計製作，以實驗展示單色的穿透式全像3D顯示面板；根據極化全像紀錄之重建極化方向及雙波長全像紀錄之選擇性紀錄兩個特殊特性，進行圓偏振極化分光器及積體化窄頻寬光學濾波器等新穎全像光學元件之研究。綜合理論與實驗之執行，吾人預期可以得到許多關鍵性成果，作為後續整合發展全像資訊儲存處理、全像3D影像顯示系統以及全像光學元件的重要基礎。
全像高分子材料之新穎體積全像紀錄研究與相關光資訊應用
(2013)
林烜輝
;
LIN SHIUAN-HUEI
;
國立交通大學電子物理學系（所）
本計晝旨在探索『新穎體積全像紀錄技術以及其應用於光資訊之研究』，内容包括兩大項目：（1).研製低收縮高分子體積全像材料，進行新穎的全像紀錄機制與特性研究，並針對相關光資訊應用進行材料特性研發。（2).研究體積全像技術於前瞻光資訊之應用，著重於資訊儲存媒體、3D顯示器元件以及全像光學元件等方向。在低收縮高分子體積全像材料方面，將承續實驗室研發之PQ/PMMA高分子體積全像材料的經驗及技術，首先完善兩階段熱聚合製程的技術，發展高光學品質的塊材製程，其次，著重於兩種新穎的全像記錄方式研究：偏極化全像與雙波長全像。我們將以實驗進行光化學分析，研究其記錄的物理機制，提供全像紀錄理論模型建立之基礎，且同時建立各式量測系統進行相關光學實驗分析，量測全像記錄特性，配合相關記錄機制理論模擬比較，建立材料參數提供規範制定與取捨，探索及設計其在光學資訊處理的相關應用。在光資訊應用方面，將以實驗室建立體積全像技術出發，配合材料的研發，進行全像資訊儲存媒體、3D顯示器元件以及全像光學元件等前瞻性研究。首先，根據偏極化全像紀錄特性，研究偏極化資訊編碼及儲存多工之可行性，以增加資訊儲存的安全性及容量；其次，配合材料低收縮紀錄特性，結合實驗室以往研究液晶3D顯示面板的基礎，進行液晶顯示器次微米驅動特性，以及重建穿透式全像所需空間同調重建光源的研究，並以體積全像設計製作，以實驗展示單色的穿透式全像3D顯示面板；根據極化全像紀錄之重建極化方向及雙波長全像紀錄之選擇性紀錄兩個特殊特性，進行圓偏振極化分光器及積體化窄頻寬光學濾波器等新穎全像光學元件之研究。綜合理論與實驗之執行，吾人預期可以得到許多關鍵性成果，作為後續整合發展全像資訊儲存處理、全像3D影像顯示系統以及全像光學元件的重要基礎。
全像高分子材料之新穎體積全像紀錄研究與相關光資訊應用
(2012)
林烜輝
;
LIN SHIUAN-HUEI
;
國立交通大學電子物理學系（所）
本計晝旨在探索『新穎體積全像紀錄技術以及其應用於光資訊之研究』，内容包括兩大項目：（1).研製低收縮高分子體積全像材料，進行新穎的全像紀錄機制與特性研究，並針對相關光資訊應用進行材料特性研發。（2).研究體積全像技術於前瞻光資訊之應用，著重於資訊儲存媒體、3D顯示器元件以及全像光學元件等方向。在低收縮高分子體積全像材料方面，將承續實驗室研發之PQ/PMMA高分子體積全像材料的經驗及技術，首先完善兩階段熱聚合製程的技術，發展高光學品質的塊材製程，其次，著重於兩種新穎的全像記錄方式研究：偏極化全像與雙波長全像。我們將以實驗進行光化學分析，研究其記錄的物理機制，提供全像紀錄理論模型建立之基礎，且同時建立各式量測系統進行相關光學實驗分析，量測全像記錄特性，配合相關記錄機制理論模擬比較，建立材料參數提供規範制定與取捨，探索及設計其在光學資訊處理的相關應用。在光資訊應用方面，將以實驗室建立體積全像技術出發，配合材料的研發，進行全像資訊儲存媒體、3D顯示器元件以及全像光學元件等前瞻性研究。首先，根據偏極化全像紀錄特性，研究偏極化資訊編碼及儲存多工之可行性，以增加資訊儲存的安全性及容量；其次，配合材料低收縮紀錄特性，結合實驗室以往研究液晶3D顯示面板的基礎，進行液晶顯示器次微米驅動特性，以及重建穿透式全像所需空間同調重建光源的研究，並以體積全像設計製作，以實驗展示單色的穿透式全像3D顯示面板；根據極化全像紀錄之重建極化方向及雙波長全像紀錄之選擇性紀錄兩個特殊特性，進行圓偏振極化分光器及積體化窄頻寬光學濾波器等新穎全像光學元件之研究。綜合理論與實驗之執行，吾人預期可以得到許多關鍵性成果，作為後續整合發展全像資訊儲存處理、全像3D影像顯示系統以及全像光學元件的重要基礎。
新穎體積全像紀錄材料及元件研製與應用研究
(2016)
林烜輝
;
LIN SHIUAN-HUEI
;
國立交通大學電子物理學系（所）
新穎體積全像紀錄材料及元件研製與應用研究
(2015)
林烜輝
;
LIN SHIUAN-HUEI
;
國立交通大學電子物理學系（所）
體積全像光學PMMA系列之高分子感光材料研製及其應用研究(II)
(2006)
林烜輝
;
LIN SHIUAN-HUEI
;
交通大學電子物理系
體積全像光學PMMA系列之高分子感光材料研製及其應用研究(III)
(2007)
林烜輝
;
LIN SHIUAN-HUEI
;
國立交通大學電子物理學系(所)
體積全像技術用於資訊儲存及三維立體顯示之研究
(2011)
林烜輝
;
LIN SHIUAN-HUEI
;
國立交通大學電子物理學系（所）
本計畫旨在探索『體積全像技術用於資訊儲存及三維立體顯示之研究』，內容包括兩大項目：(1). 研製低收縮高分子體積全像材料，進行新穎的全像紀錄機制與特性研究，並進行資訊儲存應用研發。(2). 研究全像3D 顯示器技術，著重於基礎的理論與光學系統設計，顯示器件與光源元件之探討。在低收縮高分子體積全像材料方面，將承續實驗室研發之PQ/PMMA 高分子體積全像材料的經驗及技術，首先完善兩階段熱聚合製程的技術，發展高光學品質的塊材製程，其次，著重於兩種新穎的全像記錄方式研究：偏極化全像與雙波長全像。我們將以實驗進行光化學分析，研究其記錄的物理機制，提供全像紀錄理論模型建立之基礎，且同時建立各式量測系統進行相關光學實驗分析，量測全像記錄特性，配合相關記錄機制理論模擬比較，建立材料參數提供規範制定與取捨，探索及設計其在光學資訊處理的相關應用。在全像3D 顯示器技術方面，將以實驗室建立體積全像技術出發，進行應用液晶平面顯示器元件，展示真實立體影像的前瞻性研究。首先，研製大尺寸面積之光感高分子紀錄底片，進行全像光學紀錄與重建實驗，藉以研究全像顯示器所需各項基本特性，同時研究各類型液晶顯示面板的相位及振幅調制特性，嚐試顯示實物全像所需各項特性；其次，進行空間同調重建光源的研究，並以體積全像設計製作，以及研究電腦產生全像技術，設計產生3D 實物全像片，並加入顯示器參數與波前取樣等因素，模擬其對重建影像品質之影響；最後結合這些概念，以實驗展示單色的全像3D 顯示器。綜合理論與實驗之執行，吾人預期可以得到許多關鍵性成果，作為後續整合發展全像資訊儲存處理以及全像3D 影像顯示系統的重要基礎。
體積全像記錄材料研製與物理機制分析及其應用
(2010)
林烜輝
;
LIN SHIUAN-HUEI
;
國立交通大學電子物理學系（所）
本計劃的目標在探索『摻雜式高分子聚合物的體積全像光學特性』，以此開發新穎的體積全像記錄光學材料，並探索其在光學資訊領域應用的研究。研究中將以我們實驗室過去研發之PQ/PMMA 高分子體積全像材料的經驗及技術為藍本，發展三種新穎的記錄材料：1. PQ 摻雜共基底高分子材料、 2. Irgacure784 光敏感劑摻雜PMMA 高分子材料、3. 摻雜式Epoxy 系列高分子記錄材料。我們也研究其全像記錄的物理機制，前兩者可以改進現有材料的記錄特性，第三種材料則為延續成果的新嘗試，三者均可形成塊材，提供新穎的光學資訊儲存及處理應用。配合整體計劃之進行，第一階段，致力發展三種材料的研製，並以 PQ/PMMA 材料的體積全像記錄機制為模型，探討新穎材料的記錄機制，且同時建立各式量測系統進行相關光學實驗分析，為建立材料參數提供規範制定與取捨；第二階段，著重於材料體積全像記錄特性量測，提供材料改進的依據，並配合相關記錄機制，探索及設計其在光學資訊處理的相關應用；第三階段為整合應用階段，結合全像記錄量測與基礎模型分析結果，致力於光學資訊儲存及處理研究，初步的構想將進行平面式光學系統積體化、體積全像多通道相干器以及快速圖形識別等新穎應用之開發。總之，本計劃將對摻雜式高分子體積全像記錄材料的設計、分析及量測做整體深入的研究，這是體積全像光學材料一個非常基礎的而且也是創新的研究，藉此探索我們自己的適合的光學資訊處理的體積全像材料。再者，透過詳細的分析也可進一步探索新的高分子材料之非線性光學特性。
體積全像記錄材料研製與物理機制分析及其應用
(2009)
林烜輝
;
LIN SHIUAN-HUEI
;
國立交通大學電子物理學系(所)
本計劃的目標在探索『摻雜式高分子聚合物的體積全像光學特性』，以此開發新穎的體積全像記錄光學材料，並探索其在光學資訊領域應用的研究。研究中將以我們實驗室過去研發之PQ/PMMA 高分子體積全像材料的經驗及技術為藍本，發展三種新穎的記錄材料：1. PQ 摻雜共基底高分子材料、 2. Irgacure784 光敏感劑摻雜PMMA 高分子材料、3. 摻雜式Epoxy 系列高分子記錄材料。我們也研究其全像記錄的物理機制，前兩者可以改進現有材料的記錄特性，第三種材料則為延續成果的新嘗試，三者均可形成塊材，提供新穎的光學資訊儲存及處理應用。配合整體計劃之進行，第一階段，致力發展三種材料的研製，並以 PQ/PMMA 材料的體積全像記錄機制為模型，探討新穎材料的記錄機制，且同時建立各式量測系統進行相關光學實驗分析，為建立材料參數提供規範制定與取捨；第二階段，著重於材料體積全像記錄特性量測，提供材料改進的依據，並配合相關記錄機制，探索及設計其在光學資訊處理的相關應用；第三階段為整合應用階段，結合全像記錄量測與基礎模型分析結果，致力於光學資訊儲存及處理研究，初步的構想將進行平面式光學系統積體化、體積全像多通道相干器以及快速圖形識別等新穎應用之開發。總之，本計劃將對摻雜式高分子體積全像記錄材料的設計、分析及量測做整體深入的研究，這是體積全像光學材料一個非常基礎的而且也是創新的研究，藉此探索我們自己的適合的光學資訊處理的體積全像材料。再者，透過詳細的分析也可進一步探索新的高分子材料之非線性光學特性。
體積全像記錄材料研製與物理機制分析及其應用
(2008)
林烜輝
;
LIN SHIUAN-HUEI
;
國立交通大學電子物理學系(所)
本計劃的目標在探索『摻雜式高分子聚合物的體積全像光學特性』，以此開發新穎的體積全像記錄光學材料，並探索其在光學資訊領域應用的研究。研究中將以我們實驗室過去研發之PQ/PMMA 高分子體積全像材料的經驗及技術為藍本，發展三種新穎的記錄材料：1. PQ 摻雜共基底高分子材料、 2. Irgacure784 光敏感劑摻雜PMMA 高分子材料、3. 摻雜式Epoxy 系列高分子記錄材料。我們也研究其全像記錄的物理機制，前兩者可以改進現有材料的記錄特性，第三種材料則為延續成果的新嘗試，三者均可形成塊材，提供新穎的光學資訊儲存及處理應用。配合整體計劃之進行，第一階段，致力發展三種材料的研製，並以 PQ/PMMA 材料的體積全像記錄機制為模型，探討新穎材料的記錄機制，且同時建立各式量測系統進行相關光學實驗分析，為建立材料參數提供規範制定與取捨；第二階段，著重於材料體積全像記錄特性量測，提供材料改進的依據，並配合相關記錄機制，探索及設計其在光學資訊處理的相關應用；第三階段為整合應用階段，結合全像記錄量測與基礎模型分析結果，致力於光學資訊儲存及處理研究，初步的構想將進行平面式光學系統積體化、體積全像多通道相干器以及快速圖形識別等新穎應用之開發。總之，本計劃將對摻雜式高分子體積全像記錄材料的設計、分析及量測做整體深入的研究，這是體積全像光學材料一個非常基礎的而且也是創新的研究，藉此探索我們自己的適合的光學資訊處理的體積全像材料。再者，透過詳細的分析也可進一步探索新的高分子材料之非線性光學特性。