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瀏覽 的方式： 作者 李翊裳

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2009氟化緩衝層應用於接觸孔蝕刻停止層局部形變矽金氧半場效電晶體鈍化層之特性與研究李翊裳; Li, Yi-Shang; 羅正忠; Lou, Jen-Chung; 電子研究所
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