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公開日期 | 標題 | 作者 |
---|---|---|
2011 | EDA和測試方法之於先進CMOS製程技術變異的特性分析與降低化 | 羅增錦; Luo, Tseng-Chin; 趙家佐; Chao, Mango C.-T.; 電子研究所 |
1993 | 陽極氧化鋁之特性其在氧化鋁/氮化矽雙閘極介電層非晶矽薄膜電晶體之應用 | 羅增錦; Tseng-Chin Luo; 馮明憲; Dr.Ming-Shiann Feng; 材料科學與工程學系 |
公開日期 | 標題 | 作者 |
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2011 | EDA和測試方法之於先進CMOS製程技術變異的特性分析與降低化 | 羅增錦; Luo, Tseng-Chin; 趙家佐; Chao, Mango C.-T.; 電子研究所 |
1993 | 陽極氧化鋁之特性其在氧化鋁/氮化矽雙閘極介電層非晶矽薄膜電晶體之應用 | 羅增錦; Tseng-Chin Luo; 馮明憲; Dr.Ming-Shiann Feng; 材料科學與工程學系 |