瀏覽 的方式： 作者 蔡中, 荊鳳德
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| 公開日期 | 標題 | 作者 |
|---|---|---|
| 1996 | BESOI的製作 | 林政男; Lin, Cheng-Nan; 蔡中, 荊鳳德; C. Tsai, Albert Chin; 電子研究所 |
| 1996 | 二矽化鈷淺接面的研究 | 陳健輝; Chen, Chien-Hui; 蔡中, 荊鳳德; C. Tsai, Alber Chin; 電子研究所 |
| 1996 | 以SiH2Cl2成長之選擇性磊晶 | 高永信; Kao, yung-shin; 蔡中, 荊鳳德; C. Tsai, Albert Chin; 電子研究所 |
| 1996 | 薄氧化層的電子特性 | 張慈; Chang, Tsu; 蔡中, 荊鳳德; C.Tsai, Albert Chin |