極平整之超薄氧化層

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Date

Authors

Keywords

超薄 , 氧化層 , 二氧化矽 , 半導體 , 閘極氧化層 , Ultrathin , Oxidation layer , SiO2 , Semiconductor , Gate oxide

URI

https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=444364&docId=80480
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/94456

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研究計畫;;Research Plans