研究計畫;;Research Plans

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PECVD設備應用光電膜性能提昇研究
(2010)
蔡娟娟
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C.C. Tsai
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國立交通大學光電工程研究所
行政院在2005年召開會議，探討軟性電子的發展，期望在2015年我國軟性電子產值佔全球市場20%，並能產生15家以軟性電子產品為主的公司，分佈在基板、材料、設備、元件系統、應用服務等五個領域。在2006年則擬定產業技術整合策略及行動方案，建立產、學、研共同研發平台，引進國外專家與人才，掌握上游基礎材料與智權；突破過去以製造為主之發展模式，進行垂直整合帶動相關材料、設備與量測技術之發展，建構完整產業鏈。軟性電子中目前以塑膠基板和可撓式不鏽鋼基板最為常見，然而塑膠基板在製程上有溫度的限制及元件穩定性等問題；相較之下可撓式不鏽鋼基板耐熱性高適用於Roll-to-Roll製程，更有利於推廣至商業化產品上。加上近年太陽能源備受矚目，因此如何製備適用於薄膜太陽能電池之具光滯留絨面結構之可撓式不銹鋼基板，已成為國內目前太陽光電產業所需要解決的問題。本計畫將擬與核能研究所(INER)共同合作研究，運用INER電漿鍍膜技術於不鏽鋼薄片基板上所開發具光滯留絨面結構之掺鋁氧化鋅(AZO)，結合交大現有PECVD製作氫化非晶矽薄膜太陽能電池沉積技術，以探討不同絨面結構(textured)之不鏽鋼基板對太陽光吸收膜之階梯覆蓋率(Step Coverage)、光反射率、電池轉換效率等光電特性之影響，最後再與核研所具絨面結構之AZO玻璃基板合成太陽能電池之特性相互比較，以評估INER之textured AZO不鏽鋼基板，應用於國內綠色產業的潛力，並開發出最佳的textured AZO不鏽鋼基板，以期將技術導入國內產業提昇競爭力。