標題: 可調式電極植入系統及其可調式電極植入裝置
作者: 蔡德明
徐建華
公開日期: 21-一月-2014
摘要: 本發明係揭露一種可調式電極植入系統及其可調式電極植入裝置,可調式電極植入系統包含一可調式電極植入裝置及一調整裝置。調整裝置係用以調整可調式電極植入裝置之位置。可調式電極植入裝置包含一植入本體、多個電極與多個磁性體。電極分布於植入本體,並根據一控制訊號來提供多個刺激電流;磁性體則依序結合於電極。調整裝置包含一控制單元、一激磁單元與至少一磁力單元。控制單元係用以自多個磁性體中選擇至少一待移動磁性體,激磁單元則激磁待移動磁性體以產生一磁極;最後,磁力單元產生一磁場來驅動磁極,進而移動植入本體。
官方說明文件#: A61F011/04
URI: http://hdl.handle.net/11536/104298
專利國: TWN
專利號碼: I423790
顯示於類別:專利資料


文件中的檔案:

  1. I423790.pdf

若為 zip 檔案,請下載檔案解壓縮後,用瀏覽器開啟資料夾中的 index.html 瀏覽全文。