標題: 193奈米微影用嵌附式減光型相移圖罩之研製與模擬
Fabrication and Simulation of an Embedded Attenuated Phase-Shift Mask in 193 nm
作者: 龍文安
Loong Wen-an
交通大學應用化學系
公開日期: 2000
官方說明文件#: NSC89-2215-E009-026
URI: http://hdl.handle.net/11536/91607
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=720330&docId=135305
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