標題: | 193奈米微影用嵌附式減光型相移圖罩之研製與模擬 Fabrication and Simulation of an Embedded Attenuated Phase-Shift Mask in 193 nm |
作者: | 龍文安 Loong Wen-an 交通大學應用化學系 |
公開日期: | 2000 |
官方說明文件#: | NSC89-2215-E009-026 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/91607 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=720330&docId=135305 |
顯示於類別: | 研究計畫 |