標題: 具有低介電常數阻障介電薄膜製程整合之研究(I)
Study on the Integration of Barrier Dielectric with Low Dielectric Constant (I)
作者: 施敏
SZE SIMON MIN
交通大學電子工程系
公開日期: 2002
官方說明文件#: NSC91-2215-E009-041
URI: http://hdl.handle.net/11536/92656
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=784393&docId=150767
顯示於類別:研究計畫


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