| 標題: | 低溫成長絕緣矽氧化膜設備之研製 (III) Development of Equipment for Room-Temperature Deposited Silicon Oxide (III) |
| 作者: | 葉清發 國立交通大學電子工程學系 |
| 公開日期: | 2000 |
| 官方說明文件#: | NSC89-2218-E009-081 |
| URI: | http://hdl.handle.net/11536/93607 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=597394&docId=112576 |
| Appears in Collections: | Research Plans |
- 低溫成長絕緣矽氧化膜設備之研製(I) / 葉清發
- 室溫加水液相沉積氧化矽之研究 / 林冠宏;Guan-Hong Lin;葉清發;Ching-Fa Yeh
- 低溫下利用大氣電漿沉積二氧化矽薄膜作為有機薄膜電晶體之閘極絕緣層在不同基本製程參數之研究 / 蔡堃濠;Tsai, Kun-Hao;張國明;Chang, Kow-Ming
- ROOM-TEMPERATURE SELECTIVE GROWTH OF DIELECTRIC FILMS BY LIQUID-PHASE DEPOSITION / YEH, CF;CHEN, CL
- 室溫液相沉積氧化矽(SiO2-xFx)薄膜之研究與應用 / 陳俊麟;Chun-Lin Chen;葉清發;Ching-Fa Yeh
- 室溫加硼酸液相沉積氧化矽之研究 / 林才森;Tsai-Sen Lin;葉清發;Ching-Fa Yeh
- FABRICATION OF MOSFETS USING LOW-TEMPERATURE LIQUID-PHASE DEPOSITED OXIDE / YEH, CF;LIN, SS;HONG, TY
Loading...