低溫成長絕緣矽氧化膜設備之研製 (III)

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	葉清發	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:35:48Z	-
dc.date.available	2014-12-13T10:35:48Z	-
dc.date.issued	2000	en_US
dc.identifier.govdoc	NSC89-2218-E009-081	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/93607	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=597394&docId=112576	en_US
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.title	低溫成長絕緣矽氧化膜設備之研製 (III)	zh_TW
dc.title	Development of Equipment for Room-Temperature Deposited Silicon Oxide (III)	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	國立交通大學電子工程學系	zh_TW
顯示於類別：	研究計畫