標題: | 8吋矽晶半導體LPCVD製程設備之研發---總計畫(III) Research and Development of LPCVD Process Equipment for Eight Inch Single Silicon Wafer (III) |
作者: | 林清發 LIN TSING-FA 交通大學機械工程系 |
關鍵字: | LPCVD反應爐;薄膜成長;熱流設計;LPCVD reactor;Thin film growth;Thermal fluid design |
公開日期: | 1999 |
官方說明文件#: | NSC88-2218-E009-001 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/94464 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=431210&docId=77294 |
顯示於類別: | 研究計畫 |