薄膜超導元件的研制與特性探討---子計畫四：鉈系1223相超導薄膜之製備與特性研究(II)

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Authors

Keywords

覆蓋層 , 超導薄膜 , 腔內補償裝置 , 即時雙鎗交流濺鍍系統 , 維度各向異性 , 臨界電流密度 , Capsulation layer , Superconducting thin film , In-chamber compensation setup , Dual-gun in-situ RF sputtering , Dimensionality anisotropy , Critical currentdensity

URI

https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=239629&docId=44317
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/95658

Collections

研究計畫;;Research Plans