薄膜電晶體之製造方法及其結構

Abstract

一種薄膜電晶體之製造方法，首先提供一基板，並於基板的側面上依序形成一介電層及一氧化物薄膜。接著，對氧化物薄膜照射紫外波段光源以進行光退火製程，而氧化物薄膜吸收紫外波段光源並產生熱能，以最佳化薄膜鍵結型態、修正薄膜可能存在之不穩定鍵結、或減少懸浮鍵結，以達修復低溫成長所得之氧化物薄膜缺陷的目的。最後，執行一光罩製程，而於氧化物薄膜上形成源極與汲極。藉由以上的製造程序以製造高效能的薄膜電晶體結構。