邊射型高功率雷射二極體結構
| dc.citation.patentcountry | TWN | zh_TW |
| dc.citation.patentnumber | 200913416 | zh_TW |
| dc.contributor.author | 盧廷昌 | en_US |
| dc.contributor.author | 陳瓊華 | en_US |
| dc.date.accessioned | 2014-12-16T06:12:56Z | |
| dc.date.available | 2014-12-16T06:12:56Z | |
| dc.date.issued | 2009-03-16 | en_US |
| dc.description.abstract | 一種邊射型高功率雷射二極體結構,其係具有啁啾(chirp)型周期性分佈之複數模態延展子層,其近場光型會呈現L形,且光場強度高的部分與多重量子井重疊良好,因此可獲得良好的光侷限因子,而且,光場強度低的部分會盡量往n型披覆層延伸,如此可降低邊射型高功率雷射二極體鏡面的光功率密度,並降低垂直發散角,增加此邊射型高功率雷射二極體的壽命。 | zh_TW |
| dc.identifier.govdoc | H01S005/30 | zh_TW |
| dc.identifier.uri | https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/103907 | |
| dc.language.iso | zh_TW | en_US |
| dc.title | 邊射型高功率雷射二極體結構 | zh_TW |
| dc.type | Patents | en_US |