選擇性銅膜化學氣相沈積法及其在積體電路連線應用之相關特性研究

dc.contributor.author	陳茂傑	en_US
dc.contributor.department	國立交通大學電子工程研究所	zh_TW
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:39:52Z
dc.date.available	2014-12-13T10:39:52Z
dc.date.issued	1995	en_US
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.identifier.govdoc	NSC84-2215-E009-045	zh_TW
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=172149&docId=29238	en_US
dc.identifier.uri	https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/96902
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.title	選擇性銅膜化學氣相沈積法及其在積體電路連線應用之相關特性研究	zh_TW
dc.title	Selective Cu-CVD Technology and Its Property Relevant to Interconnect Application	en_US
dc.type	Plan	en_US

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