以雷射技術研究大氣化學之重要分子---氯原子以及硫化物之光化學與反應動力學研究(II)

dc.contributor.author	王念夏	en_US
dc.contributor.author	WANG NIANN SHIAH	en_US
dc.contributor.department	交通大學應用化學系	zh_TW
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:34:52Z
dc.date.available	2014-12-13T10:34:52Z
dc.date.issued	2000	en_US
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.identifier.govdoc	NSC89-2113-M009-010	zh_TW
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=533670&docId=97589	en_US
dc.identifier.uri	https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/93041
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	光化學	zh_TW
dc.subject	動力學	zh_TW
dc.subject	氯原子	zh_TW
dc.subject	甲烷	zh_TW
dc.subject	甲硫基	zh_TW
dc.subject	硫化物	zh_TW
dc.subject	Photochemistry	en_US
dc.subject	Kinetics	en_US
dc.subject	Cl	en_US
dc.subject	CH/sub 4/	en_US
dc.subject	CH/sub 3/S	en_US
dc.subject	Sulfur compound	en_US
dc.title	以雷射技術研究大氣化學之重要分子---氯原子以及硫化物之光化學與反應動力學研究(II)	zh_TW
dc.title	Photochemistry and Reaction Kinetics of Cl and Sulfur Compounds(II)	en_US
dc.type	Plan	en_US

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