單晶CVD薄膜和熔化成長法製程中的不穩定熱流與使其穩定之研究---總計畫(III)

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Date

Authors

Keywords

浮力 , 不穩定流 , 半導體 , 化學氣相沉積法 , 薄膜單晶 , Buoyancy , Unstable flow , Semiconductor , Chemical vapor deposition (CVD) , Thin film single crystal

URI

https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=353158&docId=63026
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/95032

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研究計畫;;Research Plans