抗反射層、抗反射表面之製法、及其應用之光電轉換裝置

Abstract

本發明係有關於一種抗反射表面之製法，其包括：形成金屬膜於鈍化層上；熱處理該金屬膜，俾使金屬膜自組裝成金屬奈米顆粒；利用金屬奈米顆粒作為遮罩，移除鈍化層之部份區域，俾而形成亞波長抗反射結構，其中亞波長抗反射結構之截面積係沿著鈍化層之厚度方向增大；以及移除金屬奈米顆粒。此外，本發明更提供所製得之亞波長抗反射結構及其反射比。由於本發明所提供之亞波長抗反射結構具有較佳之抗反射效果，故可提高光電轉換裝置之光電轉換效率。此外，由於亞波長抗反射結構係製作於鈍化層上，故可降低半導體層因反應性離子蝕刻而受損之可能，進而改善光電轉換裝置之光電轉換效率。