以電子迴旋共振化學氣相沈積技術成長超薄閘極絕緣膜及可靠性之研究(II)

Date

Authors

Keywords

超薄閘極 , 可靠度 , 電子迴旋共振 , 化學氣相沈積法 , 介電薄膜 , Ultra-thin gate , Reliability , Electron cyclotron resonance , Chemical vapor deposition (CVD) , Dielectric thin film

URI

https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=665801&docId=126398
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/93462

Collections

研究計畫;;Research Plans