低溫成長絕緣矽氧化膜設備之研製(I)

Date

Authors

Keywords

室溫沈積法 , 選擇性成長 , 氟 , 半導體 , 氧化膜 , Room temperature deposition , LPD , Fluorine , Semiconductor , Oxide

URI

https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=444368&docId=80481
https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/94167

Collections

研究計畫;;Research Plans