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Browsing by Author "SU DER-CHIN"

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    以干涉相位測量法探討對掌物質的特性及其相關應用(I)
    (2003)
    蘇德欽
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    SU DER-CHIN
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    國立交通大學光電工程研究所
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    以干涉相位測量法探討對掌物質的特性及其相關應用(II)
    (2004)
    蘇德欽
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    交通大學光電工程研究所
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    以干涉相位測量法探討對掌物質的特性及其相關應用(III)
    (2005)
    蘇德欽
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    交通大學光電工程研究所
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    偏極區分多工及解多工元件的研究
    (1993)
    蘇德欽
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    交通大學光電工程研究所
    在本計畫中,提出利用體積型全像光柵研製適 用於光纖傳輸的偏極區分多工及解多工元件,以 期增加光纖載運的訊號容量.此元件以全像光柵 結構為研究主體,擬利用基片傳輸型全像結構為 其基本架構,配合短波長自由空間紀錄技術,在重鉻酸明膠全像材料,製作光纖工作波長1300nm或 1550nm區域並具有感應區分偏極特性的光柵,以光 纖耦合連接輸入及輸出端,製成偏極區分多工及 解多工元件.從光在此元件的傳導過程來看,分析 光柵耦合器,基片和介面對線性偏極光的相位,和振幅的影響因素,配合製造光柵的主要調制參數, 獲得最佳化的製造參數和最緊密的結構,使元件 具有低嵌入損失,低串擾,易與光纖耦合,調準的特 點.此元件將可提供運用於光纖通訊和光學連接 系統.
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    光學常數及相關量之測量方法及應用之研究(I)
    (2001)
    蘇德欽
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    交通大學光電工程研究所
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    光學常數及相關量之測量方法及應用之研究(II)
    (2002)
    蘇德欽
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    交通大學光電工程研究所
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    全像多輸出光學連接模組之研究
    (1996)
    蘇德欽
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    國立交通大學光電工程研究所
    本計劃將藉由研究體積相位耦合光柵(volume phase gratingcoupler)的特性與傳統多輸出光學連 接方式,設計出一種利用基片型全像結構的新 型且輸出分佈均勻的多輸出光學連接模組 (massive fanout optical interconnection module),並利用光 感高分子(photopolymer)與自製的重鉻酸銨明膠 (DCG)等全像材料,製作所需的耦合光柵以完成基 本元件的測試與應用;本計劃的主要目的是研 究晶片組與晶片組(chipset to chipset)),介面板與 介面板之間或介面板內(inter-or intra-board optoelectronics interconnects)光學連接系統的雛形架 構(prototype)的可行性,來解決光學連接中光訊號 分佈時,傳統多輸出光學連接架構組裝不易,輸出不均勻及效率不高等問題;此一模組的發展, 可以改善未來高速多晶片模組(multichip module)內 ,介面板與介面板間或介面板內的光學連接等 所需的光訊號分佈,連接,也可運用於光學計算 中所需的多輸出光學連接.
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    分離波長複合外差干涉術之研究
    (1995)
    蘇德欽
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    國立交通大學光電工程研究所
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    利用共光程外差干涉術量測複數折射率
    (1999)
    蘇德欽
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    交通大學光電工程研究所
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    利用新式編碼法研製全像散射元件
    (2000)
    蘇德欽
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    交通大學光電工程研究所
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    基片型全像式雙向傳輸波長區分多工元件
    (2000)
    蘇德欽
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    國立交通大學光電工程研究所
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    基片型全像濾光片
    (1995)
    蘇德欽
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    國立交通大學光電工程研究所
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    外差干涉技術用的新型移頻器
    (1993)
    蘇德欽
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    交通大學光電工程研究所
    設計一組由光調制器,四分之一波片及解偏板 所組成的新型移頻器,此組可用於外差式干涉測 量技術中.它的移頻範圍比其他常用的移頻器,如 AO調制器,旋轉光柵等還要廣,可由幾個Hz至幾十個 MHz,在實用上有更高的彈性,並且沒有光學元件的 移動或轉動,其光學系統的穩定性較高.
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    多層二階紅外光柵的研製
    (1999)
    蘇德欽
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    SU DER-CHIN
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    交通大學光電工程研究所
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    小透明生化材料可視化成像研究與其在顯微術上的應用
    (2006)
    蘇德欽
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    交通大學光電工程研究所
    本研究中希望將高透光率的透明生化材料加以可視化的成像，以利觀察。所欲進行的成像觀察，可 分為強度型及相位型等兩部份。在強度型成像觀察中，使用單色光或多色光，其入射角由0逐漸加大至 布魯斯特角、臨界角、表面電漿效應的共振角及grazing incident angle，探討反射光或透過光強度對入射 角及折射率(折射率與波長有關)變化最大的條件，在該條件之下，待測材料將可形成對比度佳的影像。 在相位型成像觀察中，使用線性偏光、線性外差偏光及旋光外差偏光，入射至待測材料，並適當引入偏 光元件，作為移相器或提高幹涉信號對比度用，探討在各種入射角之下，反射光的單一偏光份量的相位 移或正交偏光份量間的相位差為最大的條件，引進相移干涉術及外差干涉術測出待測材料二度空間的相 位移分佈或相位差分佈；接著代入由Fresnel』s equations 所導出的式子中，即可求得待測材料的二度空 間折射率分佈；然後再使用折射率色度圖即可對待測材料成像。不管強度型相位型成像系統中，最後將 與顯微成像技術相結合，期能觀察微小生化透明材料，並試組出如布魯斯特顯微鏡、全反射顯微鏡、表 面電漿共振顯微鏡及正入射顯微鏡等各種顯微鏡。與傳統成像法比較，本研究方法具有無外加染料及螢 光材料等污染的乾淨成像的優點。
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    結合外差干涉術與可調波長雷射做絕對距離測量的研究
    (2000)
    蘇德欽
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    交通大學光電工程研究所
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    雙波長雷射二極體干涉儀的部份條紋技術之研究
    (1997)
    蘇德欽
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    交通大學光電工程研究所
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    高精確度表面粗糙度測量儀的研究
    (1996)
    蘇德欽
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    國立交通大學光電工程研究所
    提出一種新型表面粗慥度測量儀並試組裝 其prototype 以証明其可用性.在此測量儀使用本 實驗室以前所進行光外差式研究所設計的新型 移頻器及相位計,且為了避免氣流擾動及機械 移動所引起振動的影響,參考光將採來至待測 面某一部份的反射光,以確保其具有高的解析 度及穩定度.更進一步,為了使其實用化,預定與 電腦界面相連接,以達成及時量測.