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公開日期標題作者
2001矽化鎳接觸淺接面二極體之研製林巧茹; Chiao-Ju Lin; 陳茂傑; Mao-Chieh Chen; 電子研究所
2003碳化矽基介電層與銅金屬整合之電性和阻障特性蔣秋志; Chiu-Chih Chiang; 陳茂傑; Mao-Chieh Chen; 電子研究所
1992複晶矽化鉑高溫穩定性之研究徐偉成; Wei-Cheng Hsu; 陳茂傑; Mao-Chieh Chen; 電子研究所
2002退火處理對金氧半功率電晶體之輻射損傷的修復效應鄭禮賢; Lee-Shian Jeng; 陳茂傑; Mao-Chieh Chen; 電子研究所
1992退火處理對鈦╱二氧化矽╱矽結構之退化現象研究吳俊毅; Juing-Yi Wu; 陳茂傑; Mao-Chieh Chen; 電子研究所
2005部分空乏型SOI元件之基體電位的量測及口袋離子佈植效應之探討賴祐生; Yu-Sheng Lai; 陳茂傑; Mao-Chieh Chen; 電子研究所
1992鈦、鎢擴散障礙層在鋁/鉑矽化物/矽結構上之研究張志隆; Chih-Loong Chang; 陳茂傑; Mao-Chieh Chen; 電子研究所
1994銅/二氧化矽系統可靠性之研究王弘毅; Hong-I Wang; 陳茂傑; Mao-Chieh Chen; 電子研究所
1998銅/氮化鉭/參雜氟二氧化矽/矽結構之熱穩定性王啟寧; Wang Chi-Ning; 陳茂傑; Mao-Chieh Chen; 電子研究所
1996銅/障礙層/二氧化矽/矽結構中氮化效應對鉬及鉻障礙特性之表現李東興; Lee, Tong-Hsin; 陳茂傑; Mao-Chieh Chen; 電子研究所
2002銅化學氣相沈積之基板電漿前處理效應及銅膜應力之研究張君禮; Chun-Li Chang; 陳茂傑; Mao-Chieh Chen; 電子研究所
1999銅化學氣相沈積基本特性及以Ni和NiSi為銅擴散障礙層之熱穩定性研究林鈺鈞; Yu-Chin Lin; 陳茂傑; Mao-Chieh Chen; 電子研究所
2000銅化學氣相沈積基本特性及基板電漿前處理之研究陳鵬森; Peng-Sen Chen; 陳茂傑; Mao-Chieh Chen; 電子研究所
1995銅化學氣相沉積之基本性質與選擇性沉積之研究黃守偉; Hwang, Sho-Wei; 陳茂傑; Mao-Chieh Chen; 電子研究所
2001銅化學氣相沉積及其應用在深次微米銅栓之研究林成利; Cheng-Li Lin; 陳茂傑; Mao-Chieh Chen; 電子研究所
1993銅的選擇性化學氣相沉積和鈦鎢合金障壁層在銅金屬結構之應用莊焜吉; Kuen-Chi Juang; 陳茂傑; Mao-Chieh Chen; 電子研究所
1999銅膜化學氣相沉積之技術開發與銅膜整合參氟二氧化矽在積體電路上的應用林璧君; Pi-Jiun Lin; 陳茂傑; Mao-Chieh Chen; 電子研究所
1998銅金屬薄膜之抗氧化保護膜與擴散障礙層膜在極大型積體電路之銅金屬化應用上的可靠性研究莊瑞璋; Jui-Chang Chuang; 陳茂傑; Mao-Chieh Chen; 電子研究所
1998銻離子植入SiO2/Si 基板之擴散特性研究黃國龍; Kuo-Lung Huang; 陳茂傑; Mao-Chieh Chen; 電子研究所
1994鎢在鋁/障礙層/p+n二極體的效應詹光陽; Kwang-Yang Chan; 陳茂傑; Mao-Chieh Chen; 電子研究所
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