瀏覽 的方式： 作者 C. Tsai
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| 公開日期 | 標題 | 作者 |
|---|---|---|
| 1999 | 氮化矽閘極薄氧化層之研究 | 廖益成; Y. C. Liao; 荊鳳德; 蔡中; Albert Chin; C. Tsai; 電子研究所 |
| 1998 | 由矽磊晶到極平整之超薄氧化層製作 | 林柏村; B. C. Lin; 蔡中; 荊鳳德; 陳文照; C. Tsai; Albert Chin; W. J. Chen; 電子研究所 |
| 1999 | 高介電質材料氧化鑭之研究 | 王俊彬; J. B. Wang; 荊鳳德; 蔡 中; Albert Chin; C. Tsai; 電子研究所 |