瀏覽 的方式: 關鍵字 0.25 微米閘極線寬
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公開日期 | 標題 | 作者 |
---|---|---|
2006 | 使用I-line stepper 開發 Low cost 及可大量生產之0.25 um gate pHEMT | 賴宗志; Tsung-Tzu Lai; 張翼; 張立; Yi Chang; Li Chang; 工學院半導體材料與製程設備學程 |
公開日期 | 標題 | 作者 |
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2006 | 使用I-line stepper 開發 Low cost 及可大量生產之0.25 um gate pHEMT | 賴宗志; Tsung-Tzu Lai; 張翼; 張立; Yi Chang; Li Chang; 工學院半導體材料與製程設備學程 |