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公開日期標題作者
15-七月-2007Influences of Ti, TiN, Ta and TaN layers on integration of low-k SiOC : H and CuTsai, Kou-Chiang; Wu, Wen-Fa; Chao, Chuen-Guang; Hsu, Jwo-Lun; Chiang, Chiu-Fen; 材料科學與工程學系; Department of Materials Science and Engineering
1-三月-2015Investigation of Barrier Property of Copper Manganese Alloy on RutheniumSu, Yin-Hsien; Wu, Sze-Ann; Wu, Chia-Yang; Wang, Ying-Lang; Lee, Wen-Hsi; 照明與能源光電研究所; Institute of Lighting and Energy Photonics
1999N型氮化鎵蕭基二極體之熱退火效應研究陳俊亮; Gin-Liang; 陳衛國; Wei-Kuo Chen; 電子物理系所
2000P型氮化鎵金/鉭/金歐姆接觸特性研究李國勝; Cuo-Shing Lee; 陳衛國; Prof. Wei-Kuo Chen; 電子物理系所
1-五月-2015A Study on the Diffuse Mechanism and the Barrier Property of Copper Manganese Alloy on TantalumSu, Ying-Sen; Lee, Wen-Hsi; Chang, Shih-Chieh; Wang, Ying-Lang; 照明與能源光電研究所; Institute of Lighting and Energy Photonics
1995氮化鎢及氮化鉭對銅及鋁接觸金屬之擴散阻礙特性吳東達; Wu, Tung-Ta; 陳茂傑; Chen Mao-Chien; 電子研究所
2004鉭電極與鈦酸鍶鋇薄膜電容之可靠性與製程整合研究李建財; Jian-Tsai Lee; 朝春光; 吳文發; 材料科學與工程學系
1998銅金屬薄膜之抗氧化保護膜與擴散障礙層膜在極大型積體電路之銅金屬化應用上的可靠性研究莊瑞璋; Jui-Chang Chuang; 陳茂傑; Mao-Chieh Chen; 電子研究所
2002電漿處理鉭,鈦及鉿基擴散阻障層於銅金屬化製程之研究歐耿良; Ou Keng-Liang; 周長彬; 吳文發; Chou Chang-Pin; Wu Wen-Fa; 機械工程學系
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