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瀏覽 的方式： 作者 朱浚學

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公開日期標題作者
1999利用 N2O 與 N2 氣體快速加熱氮化於 PECVD TEOS閘極氧化層及複晶矽氧化層之研究朱浚學; Juing-Shae Chu; 雷添福; 李崇仁; Dr. Tan-Fu Lei; Dr. Chung-Len Lee; 電子研究所
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