瀏覽 的方式: 作者 楊宗諭

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2006氟氮離子摻雜應用於金屬閘極與高介電常數絕緣層之低溫多晶矽薄膜電晶體楊宗諭; Tsung-Yu Yang; 趙天生; Tien-Sheng Chao; 電子物理系所