瀏覽 的方式: 作者 顧子強

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2003先進氮化超薄氧化層及堆疊氧化層結構CMOS元件在熱載子與高溫負偏壓操作下的探討顧子強; Zi-Qiang Ku; 莊紹勳; Steve S. Chung; 電子研究所