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瀏覽 的方式： 作者 Chang, Cheng-Jyi

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公開日期標題作者
1995以Si2H6低壓氣相沉積之複晶矽研製低溫 (<=600℃)薄膜電晶體張正佶; Chang, Cheng-Jyi; 雷添福; Lei Tan-Fu; 電子研究所
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